浙江美國IONPURE EDI模塊的用途和特點(diǎn)
更新時(shí)間:2026-01-04 點(diǎn)擊次數(shù):24
(5) TOC(總有機(jī)碳)的影響。
? 進(jìn)水中如果有機(jī)物含量過高,會(huì)造成樹脂和選擇透過性膜的有機(jī)污染,導(dǎo)致系統(tǒng)運(yùn)行電壓上升,產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時(shí)也容易在濃縮水通道形成有機(jī)膠體,堵塞通道。
(6)進(jìn)水中CO2的影響。
? 進(jìn)水中CO2生成的HCO3-是弱電解質(zhì),容易穿透離子交換樹脂層而造成產(chǎn)水水質(zhì)下降。
(7)總陰離子含量(TEA)的影響。
? 高的TEA將會(huì)降EDI模塊產(chǎn)水電阻率,或需要提EDI模塊運(yùn)行電流,而過高的運(yùn)行電流會(huì)導(dǎo)致系統(tǒng)電流增大,極水余氯濃度增大,對極膜壽命不利。
? 另外,進(jìn)水溫度、pH值、SiO2以及氧化物亦對IONPUREEDI模塊系統(tǒng)運(yùn)行有影響
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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式
? ?直通逆流(低及高pH值都可)再循環(huán)(氧化劑)
? ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)
步驟
? 注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。
? ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)
? ?步驟 2.
? a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)
或
? b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)
或
? c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)
? ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液(閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求)。總體來說,濃水為已用水按1:100的比例稀釋過。
? ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)
? 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)
? ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))
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IONPUREL-XM系列工業(yè)型膜堆是專門為工作應(yīng)用而設(shè)計(jì)的。美國IONPURE IP-LXM45Z EDI模塊具有極其可靠地生產(chǎn)出質(zhì)量穩(wěn)定的高純水,而不會(huì)由于再生而中斷運(yùn)行。美國IONPURE IP-LXM45Z EDI模塊可以應(yīng)用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業(yè)以及實(shí)驗(yàn)室中。
美國IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊產(chǎn)品特色:
采用雙O-型密封圈進(jìn)行密封,確保膜堆在運(yùn)行中不發(fā)生泄漏;
產(chǎn)水水質(zhì)等同甚至優(yōu)于混床出水,無需使用化學(xué)藥劑;
連續(xù)產(chǎn)水且水質(zhì)穩(wěn)定無波動(dòng),不似批處理設(shè)備呈周期變化;
不需要使用酸、堿中和系統(tǒng)及樹脂罐;
具有優(yōu)良的電絕緣性能;
在7bar(100psi)、45℃(113oF)條件下,可以連續(xù)運(yùn)行;
采用專利注冊的“全填充”技術(shù),不必使用濃水循環(huán)泵和加鹽系統(tǒng)。
清洗
隨著工作時(shí)間的累積,需要對美國Ionpure EDI模塊進(jìn)行清洗及消毒,這是因?yàn)椋?- 硬度或金屬結(jié)垢,主要產(chǎn)生在濃水室內(nèi);
- 在離子交換樹脂或膜形成無機(jī)物污垢(例如,硅);
- 在離子交換樹脂或膜形成有機(jī)物污垢;
- EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢;
- 以上所有情況一起出現(xiàn)在某些情況下,需要使用一種以上的清洗方法。
高溫消毒
美國Ionpure EDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進(jìn)行消毒,消毒說明將同時(shí)提供給用戶。
例行的消毒比較好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒,只適用于嚴(yán)重的生物污堵的消毒, 消毒時(shí)先進(jìn)行低濃度氧化劑消毒,再用高PH清洗。購買美國IONPURE EDI模塊選擇上海純超環(huán)保沒錯(cuò)的。
美國IonpureIP-LXM30Z EDI模塊在運(yùn)行過程中存在一個(gè)平衡狀態(tài),即:進(jìn)離子總數(shù)=出離子總數(shù),宏觀表現(xiàn)就是3個(gè)工作區(qū)間相對穩(wěn)定,不發(fā)生上下移動(dòng)。如果模塊的工作條件發(fā)生變化,則需要比較長的時(shí)間來達(dá)到平衡狀態(tài)。
? ? ?美國IonpureIP-LXM30Z EDI模塊系統(tǒng)在運(yùn)行中可調(diào)因素大致有進(jìn)水流量、濃水流量、電壓等。
? ? ?進(jìn)水流量增加,模塊的工作壓力也相應(yīng)增加,如果超過模塊的處理范圍,出水水質(zhì)會(huì)***變差。所以當(dāng)進(jìn)水的電導(dǎo)比較高時(shí),適當(dāng)?shù)卣{(diào)節(jié)進(jìn)水的流量是必需的。當(dāng)進(jìn)水的電導(dǎo)比較小時(shí),也可以在美國IonpureIP-LXM30Z EDI模塊系統(tǒng)壓力允許的范圍內(nèi)增加進(jìn)水的流量,以提高產(chǎn)水的效率。
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西門子EDI模塊作為超純水設(shè)備的主要部件,一旦損壞將直接造成拋光混床樹脂的壽命縮短,增加運(yùn)行成本,嚴(yán)重影響生產(chǎn)。
導(dǎo)致西門子EDI模塊故障的主要原因:
? 1、西門子EDI模塊長期在大電流,低于額定流量情況下運(yùn)行,極板側(cè)積聚的熱量得不到有效散發(fā),造成EDI接近兩極的膜片和隔網(wǎng)較早發(fā)熱變形,EDI濃水壓差增大,水質(zhì)和水量下降,嚴(yán)重會(huì)碳化漏水。
? 2、西門子EDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng),EDI的膜片和通道結(jié)垢,進(jìn)出水壓差增大,造成產(chǎn)水水質(zhì)下降,電流無法調(diào)節(jié),電壓上升。
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